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Schiphol sperimenta dispositivo per filtrare l’aria sul piazzale

  • 2 mesi fa
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Schiphol sta sperimentando un dispositivo per filtrare l’aria sul piazzale, un progetto pilota per ridurre le particelle ultrafini.

Il primo dispositivo è stato istallato accanto al molo D, sviluppato da Van Wees Innovations crea flussi d’aria che fanno sì che le particelle ultrafini si aggreghino e formino particelle più grandi che possono essere filtrate.

Il primo dispositivo istallato accanto al molo D sviluppato da Van Wees Innovations

L’anno scorso, Schiphol ha condotto con successo un progetto pilota con questo dispositivo in una caserma dei vigili del fuoco vicino alle piste. Il dispositivo ha pulito l’aria quasi completamente. Tuttavia, poiché l’edificio è in uso 24 ore su 24, con finestre e porte aperte, la riduzione durante la sperimentazione è stata in media del 75%.

Patricia Vitalis, Executive Director Schiphol Operations di Royal Schiphol Group: Tutti hanno diritto a un posto di lavoro sano. Ecco perché continuiamo a sviluppare e studiare modi per migliorare la qualità dell’aria sul piazzale. Questa innovazione è nuova nel settore dell’aviazione. Stiamo anche pensando fuori dagli schemi, facendo ricerca sperimentale e guardando a soluzioni promettenti utilizzate in altri settori”.

Altre iniziative: Schiphol vuole offrire ai dipendenti un ambiente di lavoro sano e migliorare la qualità della vita nell’ambiente locale. Per raggiungere questo obiettivo, le concentrazioni di particelle ultrafini a Schiphol devono essere ridotte. Di conseguenza, l’aeroporto è impegnato nell’attuazione dei requisiti stabiliti dall’Ispettorato del lavoro. Ciò include l’introduzione di una zona verde intorno ai moli, in cui i motori degli aerei potrebbero non avviarsi più, al più tardi entro la fine del 2027. Insieme ai partner del consorzio TULIPS, Schiphol sta anche portando avanti la ricerca sull’uso della nebbia per rimuovere le particelle ultrafini dall’aria. Inoltre, sono state introdotte procedure di partenza modificate in corrispondenza di due gate ad alta concentrazione di UFP.